產品詳情
簡單介紹：
HVF2200G80 是一個80mm（內徑）x100mm（泵柱）的高溫真空爐 ，石墨的*高工作溫度可達到2200oC. 采用先進的電控系統，實踐高精密度PID功能，可編程30段程序，每一段功率限制18KW可控硅移相調壓控制加熱.爐內加有循環水系統確保降溫速度加快. 適應于陶瓷、冶金粉末，氧化鋁，氧化硅的無氧燃燒和變色.、以及高等院校實驗用。
詳情介紹：
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真空室
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不銹鋼, 點擊圖片看詳圖
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加熱元件 |
石墨棒 |
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加熱區大小 |
80 mm （直徑） x 100mm （高） |
| *大溫度 |
1200 - 2200 oC |
| *大壓力 |
· *大真空壓力: 5x10-3 Pa ( 2x10-5 torr ) · *大氣體壓力: 10 PSI |
| 控溫方式 |
· 智能化30段可編程控制 *高溫度 : 1700-2200 oC
· C型熱電偶溫度 < 1700 oC
· +/- 0.5% FS accuracy |
| 真空系統 |
真空泵 · 真空泵的*大真空壓力： 10-2 pa · 擴散泵的*大真空壓力2x10-5 pa. · 安裝一個真空傳感器 · 管式爐上連接著不銹鋼軟管 · 數字真空表 / 安裝在控制器上 · *大真空壓力: 5x10-3Pa ( 2x10-5 torr ) |
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額定電壓 |
208 - 240VAC , *大額定功率, 18KW |
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空氣壓力 |
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重量 |
300kg |
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外形尺寸 |
128 cm （長）x 124 cm（寬） x 197 cm （高）
請點擊下面的圖片看大的結構圖
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