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    產品中心
    • SL-1700X-MGI-4是一款小型4通道管式爐,其爐管直徑為Φ25mm,針對于高通量熱處理實驗。特別是對于合金和陶瓷熱處理,其*高溫度可以達到1700℃。對于在材料基因計劃中探索材料相圖是非常好的實驗工具。
    • GSL-1700X-MGI-4是一款小型4通道管式爐,其爐管直徑為Φ25mm,針對于高通量熱處理實驗。特別是對于合金和陶瓷熱處理,其*高溫度可以達到1700℃。對于在材料基因計劃中探索材料相圖是非常好的實驗工具。
    • GSL-1500X是一款通過CE認證的小型高溫管式爐,其爐管為直徑2" 的剛玉管,加熱元件為硅碳棒。儀器本身帶有兩個真密封法蘭(法蘭上已安裝機械壓力表和不銹鋼截止閥)??刂葡到y采用高精度可控硅移相觸發控制,其控溫精度為+/-1°C,控溫方式采用30段程序設置,*高溫度可達到1500℃。
    • GSL-1600X是一款CE認證的高溫管式爐,加熱元件采用1700度的硅鉬棒,此款設備被廣泛的用于新材料樣品的燒結或是退火(在真空或是惰性氣體保護狀態下),控溫采用30段可編程智能溫度調節儀,控溫精度+/-1°C ,此款高溫爐的*高溫度1650度。
    • OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩堝可爐管內移動(靠步進電機控制)的小型開啟式管式爐。爐管直徑為50mm,設備*高工作溫度為1200℃。
    • OTF-1200X-S2-50SL是一款小型的雙爐體滑動管式爐,爐管為Φ50×1400mm的石英管,并配有不銹鋼密封法蘭,儀器*高溫度可以達到1200℃。兩個爐體可在滑軌上滑動,實現對原材料的蒸發/升華,及薄膜沉積。通過爐體的滑動可實現對樣品快速加熱,*大升溫速率為100℃/min.同時可選擇電動滑軌、質量流量計(MFC)控制的供氣系統和等離子射頻電源來搭建TCVD系統。
    • 應用范圍:OTF-1200X-III-80SL是一款CE認證的三溫區可滑動管式爐,配置dia80x94” 石英管和法蘭,工作溫度*高達1200°C。爐底安裝一對滑軌,可用手動滑動。加熱和冷卻速率*大可達100°C/min。為取得*快加熱,可以預先加熱爐子到設定的溫度,然后移動爐子到樣品位置。為獲得*快冷卻,可在樣品加熱后移動爐子到另一端。加熱和冷卻速率在真空或者惰性氣體環境下可以達到10°C/s,是低成本快速熱處理的理想爐子 產品型號 :OTF-1200X-III-80SL 安裝尺寸:2500mm L x 510mm W x 750mm 重量:250Kg
    • 應用范圍:OTF-1200X-5-III-D4 是一款三溫區的雙管爐,其*高工作溫度可以達到1200℃,專門針對于用CVD方法在金屬箔上生長薄膜物質,如石墨烯、太陽能電池的電極材料和電池電極材料等。 產品型號:OTF-1200X-III-D5- 4 安裝尺寸:1030 x 430 x 580 mm 重量:90 kg
    • 4英寸雙溫區回轉CVD管式爐,安裝有自動送料器和收料罐。自動可定份額地將粉料送入到爐管中,此過程可在氣氛保護環境下進行,可實現用連續CVD方法對粉體材料進行包覆和修飾。收料罐可在氣氛保護環境下對處理好的粉料進行收集。此款管式爐設計主要是在鋰離子電池的陰極材料(如LiFePO3, LiMnNiO3)上包覆導電層,同時也可用CVD方式制備 Si/C 陽極材料。
    • 小型開啟式立式爐 ,其爐管直徑為25mm或50mm,適合于對樣品在真空或氣氛保護環境下吊燒和淬火。采用PID方式進行溫度調節,可設置30段升降溫程序,控溫精度為+/- 1 ℃。
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