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    產品中心
    • MTI系列加熱平臺是專為材料加工及材料研究實驗室而開發,采用整體鑄造,單片機作為核心控制部件,尤為適用于對溫度敏感材料(如晶體、半導體、陶瓷等)的加熱。
    • 應用范圍:KJML普通加熱平臺適用于加熱時不會發生性質和形狀改變的材料,即不受加熱影響的材料。KJML普通加熱平臺主要用于科研實驗室做化學分析、物理測定、熱處理時進行物品的烘焙、干燥以及其它溫度試驗加熱。KJML加熱板采用鑄鋼材料,表面經防腐工藝處理,通電后進行持續加熱升溫,極限溫度可達到400℃。該加熱平臺采用全封閉式加熱盤,無明火,升溫速度快,受環境影響小,安 全可靠,可加熱的極限溫度高,采用電子調溫裝置,具備無極調溫、電源雙相功能。 產品型號 :KJML
    • MTI系列加熱平臺是專為材料加工及材料研究實驗室而開發,采用整體鑄造,單片機作為核心控制部件,尤為適用于對溫度敏感材料(如晶體、半導體、陶瓷等)的加熱。
    • MTI 加熱平臺是我公司為材料加工及材料研究實驗室開發的專用設備。它采用整體鑄造,加熱板作為加熱體,增強了設備的安全性。采用單片機作為控制核心部件,提高了控溫精度(±1℃)。該設備對一些溫度敏感材料(如晶體、半導體、陶瓷等)進行加熱和裝卡尤為適用。該設備結構簡單,操作簡便,安全可靠,是從事材料研究生產必不可少的工具。
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