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    產品中心
    • OTF-1200X-50S-PE是一款小型的PE-CVD(等離子體氣相沉積)管式爐系統。此套設備帶有500W的等離子射頻電源,一個爐管直徑為50mm的開啟式管式爐(帶有真空法蘭和連接管道)和一個直聯式雙旋機械泵。因此這套設備模型可以更新為不同的PECVD系統。對于有限的經費的情況下來進行材料探索,此套系統極為理想。
    • 雙爐體滑動PECVD系統是一款雙爐體滑動的PECVD系統,并且連接有循環手套箱。此款設備中石英爐管與一循環手套箱相連接,允許客戶用CVD方法把樣品制作好以后,直接把樣品移入到氣氛保護環境下的手套箱中。爐體采用滑動式,可在室驗中對樣品進行快速加熱和快速冷卻。此款儀器特別適合新一代納米材料和二維晶體材料的探索研究。
    • 1000℃小型開啟式管式爐是一款小型開啟式管式爐,其*高工作溫度可達到1000℃,爐管可以選用直徑為100mm或130mm的石英管,并且可配一套不銹鋼密封法蘭(上面安裝有不銹鋼截止閥和通氣接口),可在真空或氣氛保護環境下對樣品進行熱處理??刂葡到y與爐體分開,可設置30段升降溫程序,控溫精度為+/- 1℃。
    • OTF-1200X-4-SF是一款爐管尺寸為100mm,帶有滑軌法蘭的管式爐,*高工作溫度為1200℃,此款管式爐專為客戶自己搭建CVD系統而設計。
    • OTF-1500X-VHP4是一款真空熱壓機,可對材料在真空(或氣氛保護)及高溫的環境下進行加壓,如把粉末壓成塊狀,或將多層晶片壓合在一起(擴散實驗)。此款儀器*高溫度可達到1500℃,在此溫度下可對樣品施加的壓力為5T。儀器爐體設計為開啟式,爐管采用美國進口的莫來石管,模具為石墨模具,加壓裝置為一20T的電動壓機。爐子*高溫度可以達到1500℃,可設置30段升降溫程序。
    • KSL-1200X-BF6一款小型網帶爐,其網帶寬度為6“(150mm)。所要熱處理的樣品放在網帶上,網帶傳送樣品連續通過7個加熱溫區。此款設備是一款中式生產設備適合于薄膜、電子元件退火,光伏電池制作以及陶瓷材料或金屬材料退火。
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